參賽序號:2-1
海報主題
Leakage and Thermal Analysis of NSFETs with Different Substrate Isolation Strategies
系級
電機系
指導老師及參賽學生
指導老師:涂維珍
參賽學生:史舜任
構想說明
隨著半導體製程微縮,12奈米環繞閘極場效電晶體面臨嚴重的閘極誘導汲極漏電流(GIDL)與自熱效應(SHE)挑戰。本研究利用Sentaurus TCAD比較四種基板隔離架構,證實S-PTS局部隔離結構為最佳解。
S-PTS 避開汲極高濃度區,透過優化電場降低頻帶間穿隧機率,從源頭截斷漏電;同時保留基板散熱路徑,避免氧化層隔離造成的熱淤積。結果顯示,S-PTS將最高溫度控制在415.9 K,飽和電流衰減僅 16.3%,傳統結構為26.2%。S-PTS成功兼顧漏電控制與熱可靠度,為先進元件提供最佳折衷方案。

